Das Fraunhofer Institut (IMS) und die ELMOS Semiconductor AG verbindet eine langjährige Kooperation zur gemeinsamen Forschung und Entwicklung, sowie der kooperativen Nutzung der 200mm Wafer Produktionslinie.

Auf ca. 1300 m² werden 200mm Wafer mit einer Jahresleistung von > 70.000 Wafern produziert. Die Produktion umfasst die komplette CMOS Prozess-Linie mit integrierten Sensoren. In dem angrenzenden Labor (ca. 600 m²) forschen weitere Mitarbeiter an dem Ausbau der CMOS Anwendungsgebiete, wie z.b. der zusätzlichen Aufbringung von zusätzlichen Schichten oder der Optimierung der vorgefertigten CMOS Wafer zur Herstellung "intelligenter" Sensoren.